このたび、2026年9月30日(水)～10月2日(金)に幕張メッセで開催される
高機能素材 Week 東京展【次世代】乾燥プロセス展 - ドライテック -
（Dry Tech - Next-Generation Drying Process Expo）に出展いたします。
本展示会では、乾燥工程における課題解決に向けた当社の乾燥技術・装置をご紹介いたします。

【展示会概要】
会期：2026年9月30日(水)～10月2日(金)
会場：幕張メッセ
小間番号：47-6

展示会公式サイト：
https://www.material-expo.jp/hub/ja-jp/exhibit/dry.html
弊社出展社ページ：
https://www.material-expo.jp/tokyo/ja-jp/search/2026mwt0930/directory/details.%E4%B8%AD%E5%A4%AE%E5%8C%96%E5%B7%A5%E6%A9%9F%E6%A0%AA%E5%BC%8F%E4%BC%9A%E7%A4%BE.org-a1877dd0-b9e9-470b-92cf-5ab608603366.html#/

【出展内容】
主な出展内容は以下の通りです。

・マイクロ波振動乾燥機
従来の間接加熱×減圧乾燥に加え、直接過熱のマイクロ波乾燥が可能！ 中央化工機の振動乾燥機は、スプリング上で全体を高速円振動させ、その振動エネルギーにより粉粒体を流動化し、「間接加熱」を加えることで乾燥させる独自の乾燥機です。ここに新たに開発したマイクロ波加熱（直接加熱）乾燥に加え、Go-Tech事業による「金属摩耗粉の混入抑制、さらに高品質な粉体乾燥」を実現する乾燥機を開発しました。

・振動乾燥機
減圧下での「振動×間接加熱」により、スラリーからケーキ状まで効率的かつ均一に乾燥します。
内部はシンプルな設計のため、高いコンタミレス性能と洗浄性を実現しました。

・振動流動層装置
流動層装置に振動技術を融合したことで、サブミクロン単位の微粉体であっても少ない気体量で安定した流動化が可能です。
乾燥・吸着・反応はもちろん、濾過乾燥・加湿調湿・脱溶剤・分級に応用可能です。

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